离子注入的主要气体源中,易燃、易爆的有()。

A . 砷化氢 B . 二硼化氢 C . 三氟化硼 D . 硅烷 E . 氧气

时间:2022-09-08 18:32:34 所属题库:集成电路制造工艺员(三级)题库

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