高炉中大于1100℃区域为（）还原区。
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高炉内按温度区间和还原主要反应划分，（）为间接还原区。
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高炉内进入间接还原区的煤气体积小于炉缸产生的煤气体积。
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《规程》规定，低瓦斯矿井中，相对瓦斯涌出量大于（）或有瓦斯喷出的个别区域为高瓦斯区，该区应按高瓦斯矿井管理。
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在800℃-1100℃高炉温区没有直接还原。
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高炉内还原过程（）温度范围是间接还原与直接还原的共存区。
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高风温使高炉高温带下移，扩大了（）还原区，提高了高炉内煤气的化学能利用率，有利用降低焦比。
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高炉内按温度区间和还原主要反应划分，（）为直接还原区。
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高炉进行间接还原和直接还原的区域是固定不变的。
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高风温使高炉内高温带下移，扩大了（）还原区，有力于降低焦比。
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硅在大于1500℃的高炉内的还原顺序是按SiO2→（）→Si逐级进行的。
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在高炉中的还原剂为C，CO和H2。
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按温度区间和还原的主要反应划分，≤800℃为（），≥1100℃为（），800～1100℃为两种还原共存区。
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瓦斯矿井中，相对瓦斯涌出量大于（）或有瓦斯喷出的个别区域为高瓦斯区，该区域按高瓦斯矿井管理。
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根据炉内温度不同，高炉内还原过程划分为三个区：低于（）的块状带是直接还原区；（）是间接还原区和直接还原区；高于（）的是间接还原区。
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高炉煤气发热值每平方米850～1100千卡与助燃风配比为（）。
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还原区即坩埚区是炉膛内进行大量激烈的物理化学反应的区域温度为（）℃。
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高炉中有炭，和气体中CO（）为还原剂。
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高炉炉身下部的直接还原温度高于1100℃。
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高炉原料特别是烧结矿，在高炉上部的低温区还原时严重（）、（），使料柱（）降低（）恶化。
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高炉内发生间接还原反应的区域主要在（）。
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高炉内温度高于1000℃时，（）反应明显加速，故常把1000℃等温线作为高炉直接还原和间接还原区域的分界线。
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高炉中的还原剂为CO和C、H2。（）
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Si在高炉的哪个区域被大量还原（）
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高炉内温度大于1100℃的区域是()区。
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