He,OH,Na等元素在900℃下,在二氧化硅中的扩散率大于10-13cm2/s,这些元素称为()。

A . 活跃杂质 B . 快速扩散杂质 C . 有害杂质 D . 扩散杂质

时间:2022-09-26 10:07:22 所属题库:集成电路制造工艺员(三级)题库

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