一般来说,溅射镀膜的过程包括()这几步。

A . 产生一个离子并导向靶 B . 被轰击的原子向硅晶片运动 C . 离子把靶上的原子轰出来 D . 经过加速电场加速 E . 原子在硅晶片表面凝结

时间:2022-11-10 21:01:18 所属题库:集成电路制造工艺员(三级)题库

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