下列关于氢氟酸挥散法测二氧化硅量,说法不正确的是()。

A . 该方法适合于二氧化硅含量大于95%硅质耐火材料分析 B . 样品挥硅前需要经过高温灼烧,主要是为了消除样品中水分和有机物的干扰 C . 由于样品挥硅后残渣变为盐类物质,引起检测结果偏高,属于系统误差 D . 样品中二氧化硅含量越高,杂质越少,检测数据准确度越高

时间:2022-11-01 22:16:41 所属题库:化学题库

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