虽然直至今日我们仍普遍采用扩散区一词,但是硅片制造中已不再用杂质扩散来制作pn结,取而代之的是离子注入。

A . 正确 B . 错误

时间:2022-08-31 12:54:48 所属题库:集成电路工艺原理题库

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