下列物质属于酰胺类保湿剂的是。（）

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  A . A、硫酸亚铁 B . B、明矾 C . C、纯碱 D . D、聚合硫酸铝

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  A . 小苏打 B . 臭粉 C . 发酵粉 D . 纯碱

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• 下列物质属于助凝剂的是

  A .

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• 下列物质属于高分子类保湿剂的是。（）

  A . A、弹性蛋白 B . B、氢氧化钾 C . C、甘油 D . D、卵磷脂

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  A . 硝酸盐 B . 氧化锂 C . 氧化铈

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• 以下可在软膏剂中作为保湿剂的是

  A . 乙醇 B . 丙二醇 C . 山梨醇 D . 液状石蜡 E . 甘油

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• 聚酰胺类有机抗剥落剂的推荐用量为橡胶沥青质量的（）

  A . 0.1%~0.2% B . 0.2%~0.3% C . 0.3%~0.4% D . 0.4%~0.5%

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• 下列物质属于多元醇类保湿剂的是。（）

  A . A、角蛋白 B . B、透明质酸 C . C、丙二醇 D . D、明胶

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• 下列物质属于多糖类保湿剂。（）

  A . A、丝蛋白 B . B、透明质酸 C . C、弹性蛋白 D . D、卵磷脂

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• 以下可在软膏剂中作为保湿剂的是 (　　)

  A . 乙醇 B . 丙二醇 C . 山梨醇 D . 液状石蜡 E . 甘油

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• 下列条件中属于β-内酰胺类构效关系的是（）

  A . 杂环上S被O取代，活性减弱 B . 与β-内酰胺环并和的杂环，可为噻唑、噻嗪、噁唑、吡咯环，均无活性 C . 青霉素的6位和头孢菌素的7位上引入甲氧基，增加空间位阻，对β-内酰胺酶的稳定性降低 D . 头孢菌素的双键移位则失去活性 E . 青霉素类的活性小于青霉烷类

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• 可用作乳剂型基质保湿剂的是（）

  A . 硬脂酸 B . 液状石蜡 C . 吐温80 D . 羟苯乙酯 E . 甘油

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• 下列物质中不属于化学性紫外线吸收剂的是（）

  A . A、二苯甲酮 B . B、水杨酸辛酯 C . C、二氧化钛 D . D、羟苯甲酮

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• 下列药物中属于β-内酰胺类的是（）

  A . 拉氧头孢 B . 头孢曲松 C . 哌拉西林 D . 氨曲南 E . 舒巴坦（青霉烷砜）

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• 下列几种物质中属于碱基修饰剂的是（）。

  A . 氮芥 B . 溴化乙锭 C . 5-溴尿嘧啶 D . MTX E . 别嘌呤醇

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• 可作乳膏剂保湿剂的是（）

  A . 黄凡士林 B . 甘油 C . 羟苯乙酯 D . 月桂醇硫酸钠 E . 乙醇

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• 以下哪种不适用酰胺类化合物作保湿剂（）

  A . A、香波 B . B、护发素 C . C、乳液 D . D、面膜

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• 下列物质不属于保湿剂的是（）

  A . A、多元酸类保湿剂 B . B、透明质酸保湿剂 C . C、酪氨酸酶活性抑制剂 D . D、乳酸和乳酸钠

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• 牙膏中常用作保湿剂的是

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• 可用做乳剂型基质保湿剂的是（ ）

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• 酰胺类保湿剂中含有 、 、 等亲水性基团,对水有较好的亲和作用,具有良好的保湿性

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• 摩擦剂能够除去牙齿表面的污垢和有色物质，下列属于磨擦剂的是（）。

  A．甘油 B．羧甲基纤维素钠盐 C．碳酸钙 D．月桂醇磺酸钠

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• 化工生产中常用分离设备进行物料分离，分离过程基本上可分为三大类：以能量为分离剂的过程、以物质为分离剂的过程及机械分离过程。下列各过程中，不属于以能量为分离剂的过程是()。

  A、精馏 B、结晶 C、解吸 D、蒸发

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• 下列属于酰胺类化合物的是

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