硅片表面吸附杂质清洗顺序是什么？
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在组装盆式橡胶支座时，支座滑动面的不锈钢板和聚四氟乙烯板表面灰尘和杂质，必须用（）或（）清洗干净。
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扩散率越大，杂质在硅片中的移动速度就越大。
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在催化剂制备中洗涤的目的是为了除去（）中的母液，以及洗去其表面吸附的部分杂质。
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沉淀称量法中，洗涤沉淀的目的是为了除去混杂在沉淀中的母液和吸附在沉淀表面上的杂质，以及产生共沉淀的其他离子。
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清除吸附于焊丝及工件坡口两侧表面的油脂、水份及其它杂质，是避免焊缝出现（）的最基本、最有效的工艺措施。
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晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20µm厚的表面层。
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甲醇对煤气中杂质吸收顺序是什么？（先后顺序用‘＞’表示）
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分子筛吸附空气中的杂质（）（按吸附能力强弱顺序排列）
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清洗指利用清水清除原料夹带的杂质和（）等表面的污物所采取的操作过程。
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活性炭表面和内部布满了微孔，当杂质分子直径接近活性炭微孔直径时，就很容易被吸附，活性炭表面的微孔直径平均为（）。
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重量分析中，沉淀表面吸附杂质而引起沉淀沾污，沉淀表面最优先吸附的离子是（）
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洗涤消毒通常使用温水或清水进行清洗，可清除吸附在物体表面的（）。
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洗涤沉淀是为了清除表面所吸附的杂质和母液，可以多次洗涤。
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过滤是通过表面吸附和（）除去水中的悬浮物杂质。
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硅片研磨及清洗后为什么要进行化学腐蚀？
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清除吸附于焊丝及工件坡口两侧表面的油脂、水分及其他杂质，是避免焊缝出现的最基本、最有效的工艺措施（）
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下面（)选项所描述的扩散是：利用保护性气体把杂质源蒸汽携带入石英管内，杂质在高温下分解，并与衬底表面的硅原子发生反应，杂质原子向硅片内部扩散。
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碱酸工艺工作原理：通过减酸工艺清洗膜精滤机，将沾付在膜表面的蛋白质和杂质清洗干净，确保微生物合格（）
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根茎类蔬菜初步加工步骤:去除原料表面杂质→清洗→( )、（）→洗涤→浸泡→沥水。
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通常使用（）进行清洗，可清除吸附在物体表面的细菌，尘埃和污物
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在给硅片清洗时，通常将杂志分为三类，包括（）①分子杂质②原子杂质③化学杂质④离子杂质
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通常使用温水或清水进行清洗，可清除吸附在物体表面的（)。
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液体润滑剂对机件磨擦表面.上的灰尘、金属磨粒等杂质有清洗作用，防止磨损的作用也很奏效。（)
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沉淀表面吸附杂质浓度越大,则吸附杂质的量越少。（)
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