金属剥离工艺是以具有一定图形的光致抗蚀剂膜为掩膜,带胶蒸发或溅射所需的金属,然后在去除光致抗蚀剂膜的同时,把胶膜上的金属一起去除干净。()

A . 正确 B . 错误

时间:2022-11-02 13:06:56 所属题库:半导体芯片制造中级工题库

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