酸性氯化铜蚀刻液用于蚀刻单面板和多层板的内层。
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在酸碱性氯化铜蚀刻液中都是含铜量越多越好。
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碱性氯化铜蚀刻液中氯化铵浓度偏低时，蚀刻速率慢，溶液稳定性差。
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酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定，容易控制。
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侧蚀程度的大小与蚀刻液的种类、组成和所使用的蚀刻工艺及设备有关。
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属于酸性蚀刻液再生的方法有（）。
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酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。
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碱性氯化铜蚀刻液pH值过低，氮水浓度太低，蚀刻速率变慢。
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在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中，由于氯气是强氧化剂，直接通氯气是再生的最好方法。是因为（）。
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湿法蚀刻时蚀刻液的腐蚀是各向同性的，腐蚀发生在和溶液接触的各个方面。
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酸性氯化铜蚀刻体系中常用的氯化物的种类为（）。
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晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20µm厚的表面层。
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下列为碱性氯化铜蚀刻液特点的有（）。
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碱性氯化铜蚀刻液的再生的最常用的方法是空气再生法。
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在用酸碱性氯化铜蚀刻若形成氯化亚铜沉淀，有何不利因素。
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在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻不足的原因可能有（）。
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所有金属抗蚀层都可适用碱性蚀刻液，大部分金属不可用酸性蚀刻液，金除外。
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浸泡式蚀刻通常使用添加了过硫酸盐或过氧化氢的硫酸作为蚀刻液。
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随着蚀刻反应的不断进行，蚀刻液中铜的含量会逐渐增加。
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能用酸性蚀刻液蚀刻的工件就绝对不用碱性蚀刻液。
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酸性氯化铜蚀刻若操作体系的温度太高，会使（）。
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碱性氯化铜蚀刻液是目前应用最广的图形蚀刻溶液。
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在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有（）。
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蚀刻液中只需要含有氯化铜即可达到理想蚀刻要求。
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在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻过度的原因可能有（）。
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