在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，它的优点在于（）。

相似题目

• 在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

  A . DQN B . CA C . ARC D . PMMA

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• 步进光刻机的三个基本目标是对准聚焦、曝光和合格产量。

  A . 正确 B . 错误

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• 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

  A . 正确 B . 错误

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• 在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA的含义是（）。

  A . 化学增强 B . 化学减弱 C . 厚度增加 D . 厚度减少

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• 曝光后烘焙，简称后烘，其对传统I线光刻胶是必需的。

  A . 正确 B . 错误

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• 如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。

  A . 正确 B . 错误

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• 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？

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• （）是历史上最先使用的工作分析方法，它的优点在于能够对工作有一个感性的认识，是任何人员能够和员工一起讨论工作中的一些内在的规律。

  A . 关键事件法 B . 观察法 C . 访谈法 D . 问卷调查法

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• 什么是正光刻胶，负光刻胶？

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• 若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区，光刻时需要使用哪种光刻胶？为什么？并简介光刻操作流程。https://assets.asklib.com/psource/2015122710254016668.jpg

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• 光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是，光刻胶只对特定波长的光线敏感，例如深紫外线和白光，而对黄光不敏感。

  A . 正确 B . 错误

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• 采用荧光增感屏的目的主要在于它的增感系数高，能大大缩短曝光时间，但由于下述哪些原因而只能在特殊需要时才使用？（）

  A . A、清晰度不高 B . B、存在屏斑现象 C . C、散射线较严重 D . D、以上都是

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• 常见的光刻对准曝光设备有？

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• 在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？

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• 光刻的曝光方式有几种？各有何特点？

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• 光致抗蚀剂在曝光前对某些溶剂是可溶的，曝光后硬化成不可溶解的物质，这一类抗蚀剂称为负性光致抗蚀剂，由此组成的光刻胶称为负性胶。（）

  A . 正确 B . 错误

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• 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

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• 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

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• 在车悬架弹性元件中，（）由于结构简单，使用可靠，除了起缓冲作用外，还兼起传力作用，此外它的弹簧片与片之间的摩擦具有一定的减振作用。因此被一般载货汽车广泛采用，如EQ1092、解放CA1092型车。

  A . 钢板弹簧 B . 螺旋弹簧 C . 扭杆弹簧 D . 空气弹簧

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• 46、光刻工艺流程：打底膜→ →前烘 →曝光→显影→坚膜→刻蚀→去胶。

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• 基片上光刻胶的厚度对后续的曝光没有影响

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• 4、在半导体制造工艺的光刻工艺中，带有感光胶薄膜的硅片经过曝光后需要进行“曝光后烘焙”这道工序，“曝光后烘焙”的主要目的是为了什么？

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• Ca医师在执业活动中除正当治疗外，不得使用（）

  A．保健药品 B．消毒药剂 C．有禁忌证的药品 D．副作用大的药品 E．麻醉药品

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• 5、正性光刻胶与负性光刻胶的显影有什么不同？

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