物理气相沉积（PVD）
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第二次世界大战以后，电子工业和半导体工业对超纯材料的要求导致（）及各种单晶制备方法和气相沉积法的出现。
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PVD沉积温度一般（）
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化学气相沉积是非均相反应，反应所需的活化能（）相同的均相反应。
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从整个生物圈的观点出发，生物地球化学循环可分为气相型循环和沉积型循环，下列哪些元素属气相型：（）
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物理气相淀积（pvd）
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CVD为化学气相沉积技术的简称。
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简述化学气相沉积工艺过程的要点。
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沉积岩形成过程中，物质沉积是搬运介质物理化学条件变化的开始。（）
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化学气相浸渍法（CVI）是一种用于多孔预制体的化学气相沉积。
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物理气相沉积（PVD）
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物理气相沉积
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既能按气相型循环，又能按沉积型循环的元素是（）。
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制备石英光纤有多种方法，其中等离子体化学气相沉积法的缩写是（）
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经化学气相沉积法对表面硬化处理后的模具可使模具寿命提高（）倍。
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化学气相沉积（CVD）
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下列哪种纤维的制备方法是采用气相沉积法（）
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物理气相沉积方法制得的铝层致密度高于一般铝箔。
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高温陶瓷涂层的施涂方法主要有（）、（）、低温烘烤补强法和气相沉积法等。
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题3-2-12 以下是物理气相沉积工艺中真空蒸镀法的缺点是 。
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芯材上气相沉积B的结构最佳为（）。
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3、芯材上气相沉积B的结构最佳为
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3、微晶硅薄膜的热丝化学气相沉积方法中，钨丝和钽丝是最常用的两种热丝材料。
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4、芯材上气相沉积不定型B的最佳温度范围为
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7、以下技术属于物理气相沉积的有（）
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