2、在低于室温的条件下,杂质半导体的载流子浓度主要由 提供?
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N型杂质半导体中,多数载流子是()
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半导体载流子在输运过程中,会受到各种散射机构的散射,主要散射机构有()、()、中性杂质散射、位错散射、载流子间的散射和等价能谷间散射。
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试压后,发现渗漏可以采用胀接方法,胀接工作不宜在室温低于()的条件下进行。
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在杂质半导体中,杂质饱和电离区载流子的主要来源是本征激发的载流子。
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杂质半导体中少数载流子浓度()
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在杂质半导体中,少数载流子的浓度主要取决于() ,而多数载流子的浓度则与()有很大关系。
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如果半导体中存在多种杂质,在通常情况下,可以认为基本上属于杂质饱和电离范围,其电阻率与杂质浓度的关系可近似表示为().
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杂质半导体中多数载流子的浓度取决于()
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杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中,当温度升高时,电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是()
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载流导体在磁场作用下产生磁力其方向由()判断。
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试压后,发现渗漏可以采用胀接方法,胀接工作不宜在室温低于0℃的条件下进行。
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试压后,发现渗漏后可以采用胀接方法,胀接工作不宜在室温低于()的条件下进行。
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什么叫统计分布函数,费米分布和玻耳兹曼分布的函数形式有何区别?在怎样的条件下前者可以过渡到后者,为什么半导体中载流子分布可以用玻耳兹曼分布描述?
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空穴为( )载流子。自由电子为( )载流子的杂质半导体称为P型半导体。
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◑在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于()。◑A.温度◑B.掺杂工艺◑C.杂质浓度◑D.晶体缺陷
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在一定温度下,半导体热平衡时载流子浓度积等于本征载流子浓度的平方,而与掺杂无关。
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有三种不同材料的导体薄片,它们的载流子浓度之比为1:2:3,厚度之比也为1;2:3,当通过它们的电流I相同、垂直于它们的磁感应强度B也相同时,则它们的霍尔电势差之比为
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1. 在杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于 () A.温度 B.掺杂工艺 C.杂质浓度 D.晶体缺陷
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一、单项选择(每题4分) 1、从能带角度分析绝缘体、导体和半导体,以下说法错误的是()。 A. 绝缘体一般具有较大的禁带宽度 B. 绝缘体的导电性能差 C. 半导体的禁带宽度大于绝缘体,而小于导体 D. 一般来讲,材料的禁带宽度越大,导电性越差 2、若半导体材料的费米能级高于本征费米能级,则该半导体具体为()。 A. 本征半导体 B. P型半导体 C. N型半导体 D. 杂质半导体 3、当PN结加反向偏压时,它的耗尽层宽度 ,势垒高度 ()。 A. 变宽,变小 B. 变窄,变大 C. 变窄,变小 D. 变宽,变大 4、 对于单边突变硅n+/p结,耗尽区主要分布在() A. n+区 B. p区 C. 中性区 D. 扩散区 4、对平衡状态下的PN结,下列说法错误的是() A. 它的空间电荷区也叫耗尽区 B. 耗尽区存在自由载流子,非电中性 C. 中性区电场强度为零 D. 空间电荷区外部区域称为中性区 5、PN结势垒区电势最低的位置是()。 A. 靠近P区的势垒区边界 B. 靠近N
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3、3、若半导体中同时存在施主杂质和受主杂质,且杂质浓度基本相等,则该半导体类似于本征半导体,半导体中的载流子基本由本征激发提供
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试压后,发现渗漏后可以采用胀接方法,胀接工作不宜在室温低于()的条件下进行
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2、在杂质半导体中,少数载流子的浓度主要取决于 。
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1、杂质半导体中的载流子受温度影响较大的是()。
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1、请问在相同的环境条件下,本征半导体材料和杂质半导体材料哪种材料的导电能力更强?为什么?
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