传统的0.25μm工艺以上的器件隔离方法是硅的局部氧化。
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硅的氧化是炼钢的重要反应之一,硅氧化为放热反应,因此,()有利于硅的氧化。
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分子筛最基本的结构单元是硅氧及铝氧四面体。
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工艺要求PVC的喷涂厚度是()μm。
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粘土矿物的基本构造单位是硅氧四面体和铝氧八面体。
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直径为200mm,长度为0.25m三牙轮钻头,通常采用下列()的表示方法。
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表面钝化工艺是在半导体芯片表面复盖一层保护膜,使器件的表面与周围气氛隔离。()
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气相色谱法测定元素磷的方法检出浓度为0.25μg/L(萃取时相比为2∶1)。当水样与萃取剂相比达到25∶1时,检出浓度为()μg/L。
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按照国际标准和我国国家标准,合成橡胶按其主链结构的不同分为6类,即饱和碳―碳链橡胶M类,不饱和碳―碳橡胶R类,聚合物链含硅的橡胶Q类,聚合物链含氧的橡胶O类,聚合物类含硫的橡胶T类,以及聚合物链含碳、氧、氮的橡胶()类。
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粘土矿物的两种基本构造单位是硅氧四面体和铝氧八面体。
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涂层干膜总厚度:淡水介质中不少于()μm,海水介质中不少于()300μm,涂装不少于四道。厚度也可用单位面积耗漆量控制。一般红丹漆为0.20~0.25㎏(道•㎡),铝粒沥青漆为0.11~0.14㎏(道•㎡)。
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粘土矿物的基本组成结构是硅氧四面体和()。
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以纳米技术制造的电子器件,其性能大大优于传统的电子器件:1、工作速度快,纳米电子器件的工作速度是硅器件的()倍;2、功耗低,纳米电子器件的功耗仅为硅器件的1/1000;3、信息存储量大,在一张不足巴掌大的5英寸光盘上,至少可以存储30个北京图书馆的全部藏书;4、体积小、重量轻,可使各类电子产品体积和重量大为减小。
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水泵的吸水管装置如图所示,已知流量Q=76m3/h,允许真空度[hv]=6.2mH2O,吸水管长l=10m,管径d=150mm,沿程阻力系数λ=0.04,局部阻力系数0.25,则水泵允许安装高度HS=()m。
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将1.31μm~1.55μm隔离成两窗口主要原因是由于()产生的吸收损耗而形成的。
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用于亚0.25μm工艺的选择性氧化的主要技术是浅槽隔离。
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旋涂膜层是一种传统的平坦化技术,在0.35μm及以上器件的制造中常普遍应用于平坦化和填充缝隙。
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20kV隔离开关主触指接触面镀银层厚度≥()μm、硬度≥120Hv。
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蒙脱石是硅氧四面体
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晶闸管(Thyristor)是硅晶体闸流管的简称,过去又称为可控硅整流管(Silicon Controlled Rectifier,SCR),属于半控型电力电子器件。
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硅的禁带宽度比锗大,所制作的器件比锗耐高温。
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微机械加工是指获得元件之间的特征尺寸和间隔处于1μm或更小范围内的三维器件的加工工艺,是一种批量制造工艺。
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LZC3008410kV以上电压等级的电缆之间或与其他电缆之间相互接时的最小净距为0.25m()
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氧熔剂切割的切割厚度在()m以上
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隔离开关出厂验收,导电部件触头、导电杆等接触部位应镀银,导电回路动接触部位镀银厚度不小于()μm
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