对于浓度覆盖很宽的杂质原子,可以采用()方法引入到硅片中。

A . 离子注入 B . 溅射 C . 淀积 D . 扩散

时间:2022-09-27 01:18:17 所属题库:集成电路制造工艺员(三级)题库

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