制造霍尔元件的半导体材料中,目前用的较多的是锗、锑化铟、砷化铟,其原因是这些()。

A、半导体材料的霍尔常数比金属的大 B、半导体中电子迁移率比空穴高 C、半导体材料的电子迁移率比较大 D、N型半导体材料较适宜制造灵敏度较高的霍尔元件

时间:2022-09-04 04:51:42 所属题库:传感器技术题库

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