蚀刻液中只需要含有氯化铜即可达到理想蚀刻要求。

相似题目

• 在酸碱性氯化铜蚀刻液中都是含铜量越多越好。

  A . 正确 B . 错误

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• 碱性氯化铜蚀刻液中氯化铵浓度偏低时，蚀刻速率慢，溶液稳定性差。

  A . 正确 B . 错误

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• 一般在蚀刻操作中蚀刻和再生是同时进行的。

  A . 正确 B . 错误

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• 蚀刻过程中为使加速蚀刻反应正向进行的措施有（）。

  A . 增加二价铜离子的浓度 B . 使一价铜生成配合物 C . 使一价铜生成沉淀 D . 减少二价铜离子的浓度

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• 酸性氯化铜蚀刻液的特点是蚀刻速率恒定，容易控制。

  A . 正确 B . 错误

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• 酸性氯化铜蚀刻液的再生的最好的方法是双氧水再生法。

  A . 正确 B . 错误

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• 碱性氯化铜蚀刻液pH值过低，氮水浓度太低，蚀刻速率变慢。

  A . 正确 B . 错误

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• 在酸性氯化铜蚀刻液体系的再生方法中，由于氯气是强氧化剂，直接通氯气是再生的最好方法。是因为（）。

  A . 成本低 B . 再生速率快 C . 无污染 D . 设备简单

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• 酸性氯化铜蚀刻液用于蚀刻单面板和多层板的内层。

  A . 正确 B . 错误

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• 酸性氯化铜蚀刻体系中常用的氯化物的种类为（）。

  A . 氯化钠 B . 氯化氢 C . 氯化钙 D . 氯化镁

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• 晶体硅片蚀刻清洗的生产工艺有酸性蚀刻和碱性蚀刻两种，其中酸性蚀刻是采用（）和硝酸的混合溶液，醋酸和磷酸当缓冲剂，一般去除约10-20µm厚的表面层。

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• 蚀刻温度对蚀刻速率的影响是随着温度的升高，蚀刻速率加快。

  A . 正确 B . 错误

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• 下列为碱性氯化铜蚀刻液特点的有（）。

  A . 蚀刻速率快 B . 蚀刻速率比较容易控制 C . 溶铜量大 D . 再生容易

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• 碱性氯化铜蚀刻液的再生的最常用的方法是空气再生法。

  A . 正确 B . 错误

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• 蚀刻技术可分为（）和干蚀刻两类。

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• 在用酸碱性氯化铜蚀刻若形成氯化亚铜沉淀，有何不利因素。

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• 在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻不足的原因可能有（）。

  A . 传送速度太快 B . pH值太低 C . 蚀刻液温度不足 D . 喷淋压力不足

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• 随着蚀刻反应的不断进行，蚀刻液中铜的含量会逐渐增加。

  A . 正确 B . 错误

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• 能用酸性蚀刻液蚀刻的工件就绝对不用碱性蚀刻液。

  A . 正确 B . 错误

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• 干法蚀刻通常指利用辉光放电方式，产生等离子体来进行图案转移的蚀刻技术。其中等离子体含有（）。

  A . 离子、电子 B . 中性原子 C . 分子 D . 自由基

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• 酸性氯化铜蚀刻若操作体系的温度太高，会使（）。

  A . 盐酸挥发 B . 抗蚀层破坏 C . 溶液组分比例失调 D . 无影响

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• 碱性氯化铜蚀刻液是目前应用最广的图形蚀刻溶液。

  A . 正确 B . 错误

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• 在酸性氯化铜蚀刻过程出现抗蚀剂破坏的原因可能有（）。

  A . 溶液温度过高 B . 溶液被污染 C . 显影有余胶 D . 传递速度过快

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• 在碱性氯化铜蚀刻中，造成蚀刻过度的原因可能有（）。

  A . 传送速度太慢 B . pH值过高 C . 蚀刻液比重偏低 D . 蚀刻液温度不足

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