危害半导体工艺的典型金属杂质是（）。
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N型杂质半导体中，多数载流子是（）
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（）工艺只能转化“杂质”相对较少的渣油，对高硫、高残碳、高金属的渣油必须经过预处理才能进行催化裂化。同时，它也是炼油厂温室气体排放的主要工艺装置。
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加氢脱金属（HDM）就是通过加氢工艺从重油中把含金属的有机杂质脱除，而石油中的金属组分主要是（）。
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在杂质半导体中，杂质饱和电离区载流子的主要来源是本征激发的载流子。
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半导体硅常用的受主杂质是（）。
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用粘土以外的其它料，依陶瓷制造的工艺方法制成的制品，也叫做（），如块滑石瓷，金属陶瓷，电容器陶瓷，磁性瓷等.广泛应用于无线电，原子能，火箭，半导体等工业。
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变压器中产生局部放电的几种典型结构有引线.端部绝缘结构.突出的金属电极和杂质。（）
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杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种，分别是（）扩散和（）扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分，即（），才有助于形成半导体硅。
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硫是焊缝金属中有害的杂质之一，当硫以（）形式存在时危害性最大。
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化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是（）。
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如果温度升高，半导体中的电离杂质散射概率和晶格振动散射概率的变化分别是（）。
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依据《电业设备典型消防规程》的规定，油区内铁路轨道必须互相用金属导体跨接牢固，并有良好的接地装置，接地电阻不大于（）。
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杂质半导体中的载流子输运过程的散射机构中，当温度升高时，电离杂质散射的概率和晶格振动声子的散射概率的变化分别是（）
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扩散工艺使杂质由半导体晶片表面向内部扩散，改变了晶片（），所以晶片才能被人们所使用。
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在杂质半导体中，（）是掺入三价元素形成的。
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什么是本征半导体和杂质半导体？
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举例说明什么是受主杂质，什么是p型半导体？
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在本征半导体中掺入杂质的目的是（）。
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工程分析法是对识别对象的生产工艺流程、生产设备布局、化学反应原理、所选原辅材料及其所含有毒杂质的名称、音量等进行分析，推测可能存在的职业病危害因素。
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P型杂质半导体、N型杂质半导体多子、少子分别是什么
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◑在杂质半导体中，多数载流子的浓度主要取决于()。◑A.温度◑B.掺杂工艺◑C.杂质浓度◑D.晶体缺陷
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1. 在杂质半导体中，多数载流子的浓度主要取决于 （） A.温度 B.掺杂工艺 C.杂质浓度 D.晶体缺陷
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在锂离子电池行业中，激光处理工艺产生的金属粉尘的危害性，理解错误是（）
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【简答题】P型杂质半导体、N型杂质半导体多子、少子分别是什么？
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