在集成电路工艺中,光复制图形和材料刻蚀相结合的工艺技术是()。

A . 刻蚀 B . 氧化 C . 淀积 D . 光刻

时间:2022-08-28 04:54:34 所属题库:集成电路制造工艺员(三级)题库

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