CMP（CMP-chemical mechanical polishing）包括哪些过程？

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• 下面哪些指令是非法的？（假设OPl，OP2是已经用DB定义的变量） （1）CMP l5，BX （2）CMP OPl，25 （3）CMP OPl，OP2 （4）CMP AX，OPl

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• 没有CMP，就不可能生产甚大规模集成电路芯片。

  A . 正确 B . 错误

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• CMP组件（1A71123）输出的调制信号包含（）

  A . 30HZ基准相位信号 B . 健控的识别音频 C . 包括AB项内容

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• 化学机械平坦化，简称CMP，它是一种表面全局平坦化技术。

  A . 正确 B . 错误

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• 药品CMP认证分为（）

  A . A、安全认证和计量认证 B . B、计量认证和产品认证 C . C、企业认证和标准认证 D . D、企业认证和品种认证

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• 控制处理板CMP的功能如下正确的是（）。

  A . A、控制处理板CMP主要完成PS/CS域的业务呼叫控制管理； B . B、BSSAP、BSSGP等子层及系统自身的资源管理； C . C、告警采集功能 D . D、时钟接入功能

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• RNC软件结构中有主要的CMP和SMP两个板子类型，另外，加上OMP单板类型共三种，下列那些模块属于CMP模块（）。

  A . UCPMC B . NBLOMM C . SCPM D . RRM

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• 比较指令CMP的目标操作元件可以是（）。

  A . A、T B . B、M C . C、X D . D、Y E . E、S

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• CMP

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• CMP混合指示剂是由（）构成的。

  A . 钙黄绿素 B . 甲基百里香酚兰 C . 酚酞 D . 硝酸钾

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• 1CMP协议封装在（）协议中。

  A . TCP B . UDP C . IP D . PPP

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• 对耳蜗微音器电位（CMP）特点的叙述，错误的是（）。

  A . 该电位变化的频率和幅度与耳蜗的声波振动完全一致 B . 潜伏期小于0.1ms，没有不应期 C . 它是多个毛细胞受声音刺激时产生的感受器电位的复合表现 D . 在一定范围内，该电位的振幅随声压的增强而增大 E . 缺氧和深麻醉时该电位将消失

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• 中兴IBSC与CMP负荷有关的告警是（）。

  A . MSCFUC方式控制过载 B . 主备单板之间控制面通信链路断 C . CPU负荷冲高FUC控制方式告警 D . SCCP子系统不可用

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• CMP是（）的简称。

  A . A.多芯片多处理器 B . B.多芯片单处理器 C . C.单芯片多处理器 D . D.单芯片单处理器

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• 利用CMP指令比较两个有符号数的大小时，常用什么标志？

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• CMP的工艺参数有哪些？

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• CMP是（)指令，CALL是（)指令。

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• Cmp规定，批生产记录应（）。

  A．按检验报告日期顺序归档 B．按药品入库日期归档 C．按药品分类归档 D．按生产日期归档 E．按批号归档

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• 编码里程计通过电缆连接在CMP核心处理板卡上（）

  是 否

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• 西门子PLC常用编程指令中，CMP＞代表（）指令

  A．等于 B．小于 C．大于 D．不等于

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• CMP中的磨除速率是指CMP抛光时去除表面材料的速率，一般突出部分的磨除速率更低。

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• CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（)是最重要的设备。

  A．后CMP清洗设备 B．抛光机 C．抛光终点检测及工艺控制设备 D．废物处理和检测设备

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• 下面选项中不属于化学机械抛光CMP工艺缺点的选项是？（)

  A．影响平坦化质量的工艺因素很多且不易控制 B．CMP进行平坦化的同时也会引入新的缺陷 C．需要配套的设备、材料、工艺控制技术，这是一个需要开发、提高的系统工程 D．设备、技术、耗材比较便宜，维护也较为简单

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• CMP系统中能新建业务帐号的角色权限是什么角色（）

  A．投资人 B．管理员 C．店总 D．贷后操作员

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