CMP技术所采用的设备有抛光机、后CMP清洗设备、抛光终点检测及工艺控制设备、废物处理和检测设备等，其中（)是最重要的设备。
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下面哪些指令是非法的？（假设OPl，OP2是已经用DB定义的变量） （1）CMP l5，BX （2）CMP OPl，25 （3）CMP OPl，OP2 （4）CMP AX，OPl
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化学机械平坦化，简称CMP，它是一种表面全局平坦化技术。
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在CMP设备中被广泛采用的终点检测方法是光学干涉终点检测。
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20世纪90年代初期使用的第一台CMP设备是用样片估计抛光时间来进行终点检测的。
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无状态会话Bean、有状态会话Bean、CMP与BMP中，哪一种Bean不需要自己书写连接数据库的代码？（）
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RNC软件结构中有主要的CMP和SMP两个板子类型，另外，加上OMP单板类型共三种，下列那些模块属于CMP模块（）。
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便利店系统应用服务器程序安装完毕后，需要运行（），将“D：\Hisense\HS-CMP50\Server”文件夹下的文件PSystem.dll注册一下。
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CMP是一种表面（）的技术，它通过硅片和一个抛光头之间的相对运动来平坦化硅片表面，在硅片和抛光头之间有（），并同时施加（）。
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CMP（CMP-chemical mechanical polishing）包括哪些过程？
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试分别指出下列各指令语句的语法是否有错，如有错，指明是什么错误。 CMP CL，1234H
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若累加器AX的内容为4050H，执行指令CMP AX，4040H后，AX为多少？
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如果AX和BX中为无符号数，要求AX小于BX转移到NEXT，可以在CMP AX，BX后使用以下指令：（）
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累加器AL中的内容为74H，执行CMP AL，47H指令后，累加器AL中的内容为（）。
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如果AX和BX中为无符号数，要求AX等于BX转移到NEXT，可以在CMP AX，BX后使用以下指令：（）
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利用CMP指令比较两个有符号数的大小时，常用什么标志？
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如果AX和BX中为有符号数，要求AX小于BX转移到NEXT，可以在CMP AX，BX后使用以下指令：（）
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有程序如下： BUF DB. 12H,23H,34H,45H,56H,67H,78H,89H,91H MOV SI,O MOV AL,[ BUF +SI] LP: INC SI CMP SI,9 JAE EXIT CMP AL，[BUF +SI] JLE NEXT（）MOV AL,[BUF +SI] A22：JMP LP EXIT:INT 3 程序执行后AL=?该程序的功能是什么？
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CMP的工艺参数有哪些？
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2、EAX内保存一个有符号整数，执行“cmp eax,0”指令后，希望EAX小于0时跳转到done标号处，应使用的条件转移指令是：
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CMP中的磨除速率是指CMP抛光时去除表面材料的速率，一般突出部分的磨除速率更低。
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下面选项中不属于化学机械抛光CMP工艺缺点的选项是？（)
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指令“cmp al,0”执行后，指令“jz done”发生转移时，AL寄存器：（)。
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4、设AL=74H，则指令“CMP AL,47H”执行后，AL的值为（)
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36、1、假设AX=7DE3H,BX=73D3H，指令序列 CMP AX,BX JC L1 JMP L2 执行后，程序转向的是 ？
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