光刻步骤

相似题目

• 光刻

  查看最佳答案

• 对正性光刻来说，剩余不可溶解的光刻胶是掩膜版图案的准确复制。

  A . 正确 B . 错误

  查看最佳答案

• 简述硅栅p阱CMOS的光刻步骤。

  查看最佳答案

• 在深紫外曝光中，需要使用（）光刻胶。

  A . DQN B . CA C . ARC D . PMMA

  查看最佳答案

• 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是正性光刻胶。

  A . 正确 B . 错误

  查看最佳答案

• 在集成电路制造工艺步骤中，光刻与刻蚀能把掩膜版上的图形转移到硅片上来。

  A . 正确 B . 错误

  查看最佳答案

• 什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？

  查看最佳答案

• 如果光刻胶在曝光前可溶于某种溶液而经过曝光后不可溶，则这种光刻胶为正胶。

  A . 正确 B . 错误

  查看最佳答案

• 最早应用在半导体光刻工艺中的光刻胶是哪种胶？

  查看最佳答案

• 光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。

  查看最佳答案

• 有光刻胶覆盖硅片的三个生产区域分别为光刻区、刻蚀区和扩散区。

  A . 正确 B . 错误

  查看最佳答案

• 什么是正光刻胶，负光刻胶？

  查看最佳答案

• 若计划用图示中掩膜版上黑色区域在硅片上制作扩散区，光刻时需要使用哪种光刻胶？为什么？并简介光刻操作流程。https://assets.asklib.com/psource/2015122710254016668.jpg

  查看最佳答案

• 光刻区使用黄色荧光灯照明的原因是，光刻胶只对特定波长的光线敏感，例如深紫外线和白光，而对黄光不敏感。

  A . 正确 B . 错误

  查看最佳答案

• 光刻工艺分为哪些步骤？

  查看最佳答案

• 什么是负性光刻？正性光刻？

  查看最佳答案

• 例举出两种光刻胶显影方法。例举出7种光刻胶显影参数。

  查看最佳答案

• 解释光刻胶显影。光刻胶显影的目的是什么？

  查看最佳答案

• 简单叙述一下pn结隔离的NPN晶体管的光刻步骤。

  查看最佳答案

• 3、哪个是表征光刻精度的性能指标，它不仅与光刻胶本身有关，还与光刻工艺条件和操作技术等因素有关（）。

  A．灵敏度 B．分辨率 C．粘附性 D．抗蚀性

  查看最佳答案

• 5、正性光刻胶与负性光刻胶的显影有什么不同？

  查看最佳答案

• 16、光刻的工艺要求是： 。

  A．图形完整，尺寸准确 B．套准对准，套准精度高 C．表面干净 D．具有一定的工艺宽容度

  查看最佳答案

• 17、光刻胶的主要性能指标包括： 。

  A．抗蚀性 B．灵敏度 C．分辨率 D．粘附性

  查看最佳答案