2、光刻胶的主要成分是
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离子注入中静电扫描的主要缺点是离子束不能垂直轰击硅片，会导致光刻材料的阴影效应，阻碍离子束的注入。
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有关光刻胶的显影下列说法错误的是（）。
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吲哚试剂的主要成分是()氧化酶试剂的主要成分是()苯丙氨酸脱氨酶试剂的主要成分是()VP试剂2的主要成分是()
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试述光刻加工的主要阶段？
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光刻胶的光学稳定通过（）来完成的。
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光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。
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什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？
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光刻的主要工艺流程按照操作顺序是（）。
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车门包边时在外板翻边处涂折边胶的主要作用是：（）。
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光刻包括两种基本的工艺类型：负性光刻和（），两者的主要区别是所用光刻胶的种类不同，前者是（），后者是（）。
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纸张的（）过低，是造成堆版堆胶的主要原因。
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汽车用钢板折边胶的主要作用是（）。
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在硅片制造中光刻胶的两种目的是什么？
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涂装车间涂PVC胶的主要目的是（）。
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502胶的主要成分是（）。指纹汗液中的（）和氨基酸所含的（）和（）能引发（），因而可以使汗液指纹显现出来。显出的指纹呈现（）或（）。也可以加入染色剂。
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聚乙烯基吡咯烷酮是喷发胶的主要成分。()
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2、核（小）体的化学成分主要是
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基片上光刻胶的厚度对后续的曝光没有影响
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2、中动脉中膜的主要成分是
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4、在半导体制造工艺的光刻工艺中，带有感光胶薄膜的硅片经过曝光后需要进行“曝光后烘焙”这道工序，“曝光后烘焙”的主要目的是为了什么？
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5、正性光刻胶与负性光刻胶的显影有什么不同？
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17、光刻胶的主要性能指标包括： 。
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强力HABI系列光引发剂产品主要应用于干膜光刻胶（）
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2、植物细胞初生壁的主要成分是 。