二氧化硅在扩散时能对杂质起掩蔽作用进行()扩散。
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要对200Hz的声音起扩散作用,扩散体的宽度最小应大于()米。
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扩散率越大,杂质在硅片中的移动速度就越大。
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()不起渗水和汇水作用,而是把路基范围内的泉水或渗沟汇集的水排到路基范围以外,使其不致在土中扩散,危害路基。
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钢加热时,在生成氧化铁皮的基础上,由于高温炉气的存在和扩散作用,未氧化的钢表面层中的碳原子向外扩散,炉气中的氧原子也透过氧化铁皮向里扩散,当两种扩散会合时,碳原子被烧掉,导致未氧化钢表面层中化学成分贫碳的现象,叫做()。
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离子注入能够重复控制杂质的浓度和深度,因而在几乎所有应用中都优于扩散。
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杂质原子在半导体中的扩散机理比较复杂,但主要可分为()扩散和()扩散两种。
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杂质在硅中的扩散方式有哪些?
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恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为()分布。
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在空位扩散中,如果迁移的空位的原子是杂质原子,扩散称为()。
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杂质在硅晶体中的扩散机制主要有两种,分别是()扩散和()扩散。杂质只有在成为硅晶格结构的一部分,即(),才有助于形成半导体硅。
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被氧化了的色素从氧化还原介质中得到(),又重新回到准能级的色素成为氧化态,向对电极进行扩散,从()电极接受电子回到还原状态,这就是电子的一个循环。
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朝核问题是当前国际社会关注的热点之一。我国政府一直在努力推动解决朝核问题。我国政府不赞成朝鲜退出《不扩散核武器条约》,主张朝鲜半岛无核化。这体现了()。①我国实行独立自主的和平外交政策②我国爱好和平的民族精神③《不扩散核武器条约》对国际安全起决定作用④当前国际社会冲突尖锐
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恒定表面源扩散的杂质分布在数学上称为什么分布?()
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如果磷在二氧化硅中扩散,对扩散率影响最大的因素是:()。
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复合与扩散作用在电弧熄灭过程中起什么作用?
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异形筘起控制气流、减少气流扩散的作用。
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行政区域的划分和建制往往对语言的传播扩散起着决定性作用。
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4、扩散电流是由半导体的杂质浓度引起的,即杂质浓度大,扩散电流大;杂质浓度小,扩散电流小。
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下面()选项所描述的扩散是:利用保护性气体把杂质源蒸汽携带入石英管内,杂质在高温下分解,并与衬底表面的硅原子发生反应,杂质原子向硅片内部扩散。
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方块电阻反映了单位面积扩散进去的杂质总量,扩散的杂质越多,电阻越大,反之,电阻越小。
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选择扩散源必须满足固溶度和扩散系数的要求,并且要选择好掩蔽膜()
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1、杂质的扩散掺杂两种方式: 和 。 2、实际扩散工艺采用两步扩散工艺,结合两种扩散工艺,分为 和 ,预淀积是惰性气氛下的 扩散,目的是 。再分布是惰性气氛下的 扩散,将窗口杂质再进一步向片内扩散,目的是 。 3、硅中点缺陷有 、 和 。 4、氧化增强与硅表面的取向有关,在干氧氧化时, 晶面的氧化增强的效果最强。 5、(判断)硅经扩散工艺掺入的杂质均已完全电离,无需再退火激活,这种说法是否正确。
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18、根据扩散杂质在晶格中的位置不同,将扩散分为
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6、根据扩散杂质在晶格中的位置不同,将扩散分为
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